Objetivo de pulverización catódica de molibdeno

Objetivo de pulverización catódica de molibdeno

1.El objetivo de pulverización catódica de molibdeno es un material metálico de molibdeno de alta pureza que se utiliza como fuente de pulverización catódica en diversos campos de preparación de películas. Generalmente se requiere que la pureza del objetivo de pulverización catódica de molibdeno metálico alcance más del 99,95% para garantizar los requisitos de calidad y pureza de la película preparada.
2.Punto de fusión: 2620 grados
3.Superficie: pulida
4.Forma: personalizado
Descripción de productos

 

Alta pureza: el requisito general de pureza del 99,95% o más se puede personalizar según las necesidades del cliente de un objetivo de pulverización catódica de molibdeno de mayor pureza.

Buena procesabilidad: el molibdeno es fácil de procesar en diferentes formas del objetivo, como forma de placa, forma de cilindro giratorio, cuadrado, etc.

Buena resistencia al desgaste: molibdeno de alta dureza, resistencia al calor y a la corrosión, no es fácil de deformar, por lo que el objetivo de molibdeno puede mantener un efecto de pulverización estable a largo plazo.

Fácil de limpiar: debido a que las propiedades químicas del objetivo de molibdeno son más estables, es fácil de limpiar durante la operación y reduce la contaminación por impurezas.

Personalizable: Las especificaciones, el tamaño y la forma del objetivo de molibdeno se pueden personalizar según las diferentes necesidades de los clientes para cumplir con los requisitos de los diferentes procesos de preparación.

 

Parametros del producto

 

 

Material

Molibdeno puro 99,95%

Especificaciones

El material objetivo de molibdeno se puede procesar según los requisitos del cliente.

Campo de aplicación

1, revestimiento al vacío 2, industria del vidrio

 

 

Visualización de detalles de la imagen

 

 

Molybdenum Sputtering Target process
Molybdenum Sputtering Target in stock

 

Molybdenum Sputtering Target price
Molybdenum Sputtering Target For Sale

 

 

Aplicación del producto

 

El objetivo de pulverización catódica de molibdeno es un material importante con una amplia gama de aplicaciones.

El objetivo de pulverización catódica de molibdeno se utiliza principalmente en componentes electrónicos, células solares, pantallas táctiles, nanomateriales, etc. Específicamente, el objetivo de pulverización catódica de molibdeno se utiliza para componentes electrónicos debido a su excelente aislamiento, conductividad térmica y resistencia a la corrosión, lo que ayuda a mejorar el rendimiento y la confiabilidad de dispositivos. El objetivo de pulverización catódica de molibdeno también es un material clave para fabricar células solares, ya que actúa como electrodo posterior en las células solares. Además, se utiliza en pantallas táctiles para lograr efectos táctiles de alta definición y alta sensibilidad, ampliamente utilizado en tabletas, teléfonos inteligentes, libros electrónicos, etc., brindando a los usuarios una experiencia de operación más conveniente. Además, los nanomateriales fabricados con objetivo de pulverización catódica de molibdeno se pueden utilizar ampliamente en biomedicina, catálisis química, almacenamiento de energía electroquímica, etc. Por ejemplo, las nanopelículas de molibdeno se pueden utilizar como biosensores para mejorar la sensibilidad y especificidad de la detección biológica. Como material importante en los campos modernos de alta tecnología, el objetivo de pulverización catódica de molibdeno se está desarrollando hacia una protección funcional, de alto rendimiento y ambiental, impulsando el proceso de ciencia y tecnología innovadoras.

 

Proceso de producción

 

Molybdenum processing workpiece production flow chart

 

Preguntas más frecuentes

 

P: ¿Qué es el objetivo de pulverización catódica de molibdeno?

R: El objetivo de pulverización catódica de molibdeno es el material utilizado en el proceso de deposición física de vapor (PVD) para producir películas delgadas de molibdeno sobre un sustrato. Es una pieza sólida de molibdeno puro a la que se le da la forma deseada para su uso en una máquina de pulverización catódica.

P: ¿Cómo se produce el objetivo de molibdeno?

R: El objetivo de pulverización catódica de molibdeno se produce mediante un proceso complejo que implica múltiples pasos, que incluyen fusión, fundición, forja, mecanizado y pulido. El paso inicial implica utilizar un horno de inducción al vacío para fundir molibdeno en bruto y moldearlo. Luego, el lingote resultante se somete a múltiples rondas de forjado, mecanizado y pulido para crear el objetivo de pulverización final.

P: ¿Cuáles son los beneficios de utilizar el objetivo de molibdeno?

R: El objetivo de pulverización catódica de molibdeno ofrece una serie de beneficios para aplicaciones PVD, incluida una excelente conductividad térmica y eléctrica, un alto punto de fusión, resistencia a la corrosión y una baja tasa de pulverización catódica. También es muy puro y uniforme, lo que conduce a una deposición consistente de la película.

P: ¿Qué industrias utilizan el objetivo de molibdeno?

R: El objetivo de pulverización catódica de molibdeno se utiliza en una amplia gama de industrias, desde semiconductores hasta fotovoltaica y arquitectura. Es particularmente importante en la producción de dispositivos electrónicos, como chips de computadora, luces LED y células solares.

P: ¿Cómo puedo garantizar la calidad del objetivo de molibdeno?

R: Para garantizar la calidad del objetivo de pulverización catódica de molibdeno, es importante elegir un fabricante confiable que utilice materias primas de alta calidad y estrictos procedimientos de control de calidad. Además, es importante manipular y almacenar el objetivo adecuadamente para evitar daños y contaminación. Por último, las inspecciones y pruebas periódicas pueden ayudar a identificar cualquier problema y garantizar un rendimiento óptimo.
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