Descripción de productos
Un objetivo de pulverización catódica de tungsteno es un material metálico de alta-pureza que se utiliza en procesos PVD (deposición física de vapor) para depositar películas delgadas de tungsteno sobre sustratos.
Debido a su alto punto de fusión, baja resistividad y excelente estabilidad térmica, el tungsteno se usa ampliamente en aplicaciones electrónicas y de recubrimiento avanzadas.
Los objetivos de pulverización catódica de tungsteno se utilizan ampliamente en las industrias de semiconductores, pantallas y recubrimientos de película delgada dondeAlta pureza, deposición estable y calidad de película uniforme.son críticos.
En Ehisen, suministramosobjetivos de tungsteno de alta-densidad y pureza ultra-altadiseñado parasistemas de pulverización catódica con magnetrón, lo que garantiza un rendimiento estable y una larga vida útil en entornos de producción exigentes.
👉 Tamaños personalizados, soluciones de unión y entrega rápida disponibles
Especificaciones de productos
| Pureza | W>99.95% |
| Densidad | >19,1 g/cc |
| Redondo | Diámetro menor o igual a 14 pulgadas |
| Espesor Mayor o igual a 1mm | |
| Bloquear | Longitud menor o igual a 32 pulgadas |
| Ancho menor o igual a 12 pulgadas | |
| Espesor Mayor o igual a 1mm | |
| Tipo: | Objetivos de pulverización catódica de tungsteno planos y giratorios |
A continuación se muestran los tamaños más estándar de nuestros objetivos de pulverización catódica de tungsteno. Si no encuentra el tamaño que necesita, no dude en contactarnos.
| Espesor | Ancho | Longitud | Alineación | Vertical | Acabado superficial |
| 8.0~16.0 | 10~450 | 10~500 | <0.05 | <2o | |
| 3.0~8.0 | 10~450 | 10~800 | <0.05 | <2o | |
| 1.0~3.0 | 10~450 | 10~1200 | <0.05 | <2o |
Aplicaciones típicas de los objetivos de pulverización catódica de tungsteno
Ventajas clave de nuestros objetivos de tungsteno
● Alta pureza (hasta 99,999%)
Garantiza una contaminación mínima en los procesos de semiconductores.
● High Density Structure (>19,2 g/cm³)
Proporciona una velocidad de pulverización uniforme y un espesor de película estable
● Baja generación de partículas
Mejora el rendimiento en aplicaciones de recubrimiento de precisión
● Microestructura estable
Garantiza un rendimiento constante durante largos ciclos de operación
● Soluciones de unión personalizadas
Placa de respaldo de cobre con enlace de indio disponible
Cómo elegir el objetivo de tungsteno adecuado
La selección del objetivo de pulverización catódica de tungsteno correcto depende de:
● Nivel de pureza → semiconductor versus recubrimiento industrial
● Tamaño de grano → afecta la uniformidad de la película
● Adherido versus no-adherido → rendimiento de disipación de calor
● Tamaño objetivo → compatible con equipos de pulverización catódica
👉 Brindamos soporte de selección gratuito según las condiciones de su proceso
ehisen
entrega de embalaje
entrega de embalaje
Materiales de embalaje:
Generalmente se utilizan materiales de embalaje anti-estáticos, a prueba de humedad-y de golpes-, como espuma plástica, cajas de madera, cartones, etc.
Método de embalaje:
Coloque el producto en el material de embalaje y fíjelo con relleno para evitar que el objetivo se mueva o se dañe durante el transporte.
Logotipo y etiqueta:
Coloque un logotipo y una etiqueta claros en el paquete, incluido el modelo de destino, las especificaciones, la cantidad, la fecha de producción, el número de lote y otra información.
Método de transporte:
Los productos suelen transportarse por vía aérea o terrestre. Durante el transporte, se debe tener cuidado para evitar que el objetivo se vea afectado por vibraciones severas, colisiones o cambios de temperatura.
Procesos de servicio
Nuestros procesos de servicio
Consulta
1
>>
determinar el producto
2
>>
Solicitar muestras
3
>>
Confirmar el pedido
4
>>
Transporte multi-canal
5
>>
Servicios postventa-
6
Preguntas frecuentes
Preguntas frecuentes
01.¿Qué objetivo de tungsteno de pureza debo elegir?
02. ¿Cuál es la vida útil típica de un objetivo de pulverización catódica de tungsteno?
03. ¿Proporcionan objetivos de tungsteno adheridos?
04. ¿Se puede personalizar el tamaño y la forma?
05. ¿Cuál es el precio del objetivo de pulverización catódica de tungsteno?
Contáctenos
estamos aquí para ti
Para recibir una cotización rápida y precisa, envíenos:
● Tamaño y forma del objetivo
● Pureza requerida
● Cantidad
● Aplicación (semiconductor/recubrimiento/solar)
👉 Recomendaremos la solución más-rentable en un plazo de 24 horas
admin@ehisen-anode.com
+86 18700703333 Elsa Lin
Etiqueta: objetivo de pulverización catódica de tungsteno, fabricantes, proveedores, fábrica de objetivos de pulverización catódica de tungsteno de China, Servicios de forjado de carburo de tungsteno, Productos de forja de tungsteno, Productos procesados de aleación de tungsteno, elementos procesados de tungsteno, productos de forja semi-caluroso de tungsteno, productos formados por tungsteno