Objetivo especial de molibdeno
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Objetivo especial de molibdeno

Objetivo especial de molibdeno

Material: molibdeno puro (99,95%)
Densidad: Mayor o igual a 10,15 g/cm³
Tamaño de grano: menor o igual a 100 μm
Superficie: suelo a 32 mm.
Forma: placa, lámina, lámina, disco, varilla, tubo, crisol;
Proceso: forjado-sinterizado-molienda
Dimensions:Thickness >2 mm, ancho<500mm, Length <1000mm.
Aplicación: Industria electrónica

Descripción de productos

 

 

 

 

Special molybdenum target manufacturers
Special molybdenum target suppliers

 

Blancos especiales de molibdenoson materiales de pulverización catódica de alta-pureza diseñados específicamente para aplicaciones avanzadas de deposición de películas delgadas-en industrias de semiconductores, pantallas, fotovoltaicas y electrónicas. Fabricados a partir de materias primas de molibdeno de primera calidad y procesados ​​mediante pulvimetalurgia avanzada, forjado, laminado y tecnologías de mecanizado de precisión, nuestros objetivos de molibdeno ofrecen una densidad excelente, una estructura de grano uniforme y un rendimiento de pulverización catódica superior. Con un alto punto de fusión (2623 grados), una excelente conductividad térmica, un bajo coeficiente de expansión térmica y una excelente resistencia a la corrosión, estos objetivos garantizan tasas de deposición estables, una vida útil prolongada del objetivo y una calidad de película constante durante todo el proceso de pulverización catódica. La alta pureza y la microestructura homogénea ayudan a minimizar la generación de partículas, mejorar la uniformidad de la película y mejorar la eficiencia de la producción en entornos exigentes de recubrimiento al vacío.

 

Características de los productos

 

· pureza

La alta pureza es un requisito característico básico para el objetivo de molibdeno especial. El rendimiento de la película pulverizada mejora al aumentar la pureza del objetivo de molibdeno. La pureza de los objetivos de pulverización catódica de molibdeno ordinarios debe ser de al menos 99,95 % (la fracción de masa, la misma a continuación). Sin embargo, a medida que el tamaño de los sustratos de vidrio en la industria LCD continúa aumentando, es necesario ampliar la longitud del cableado y reducir el ancho de las líneas. Para garantizar la uniformidad de la película y la calidad del cableado, también se han aumentado en consecuencia los requisitos de pureza para los objetivos de pulverización catódica de molibdeno. Por lo tanto, dependiendo del tamaño del sustrato de vidrio de pulverización catódica y del entorno de uso, se requiere que la pureza del objetivo de pulverización catódica de molibdeno sea del 99,99 % al 99,999 % o incluso superior. El objetivo de pulverización catódica de molibdeno sirve como fuente catódica en la pulverización catódica. Las impurezas en el sólido y el oxígeno y el vapor de agua en los poros son las principales fuentes de contaminación de las películas depositadas. Además, en la industria electrónica, los iones de metales alcalinos (Na+.K+) se convierten fácilmente en iones móviles en la capa aislante, reduciendo el rendimiento de los componentes; elementos como el uranio (U) y el titanio (Ti) pueden liberar rayos, provocando que el dispositivo se rompa suavemente; Los iones de hierro y níquel provocarán fugas en la interfaz y aumentarán los elementos de oxígeno. Por lo tanto, durante el proceso de preparación del objetivo especial de molibdeno, estos elementos de impureza deben controlarse estrictamente para minimizar su contenido en el objetivo.

· Densidad

Durante el proceso de recubrimiento por pulverización catódica, cuando se bombardea el objetivo de pulverización catódica menos denso, el gas en los poros internos del objetivo se libera repentinamente, lo que provoca que partículas del tamaño del cielo-salpiquen o el material de la película sea bombardeado por electrones secundarios después de la formación de la película. Las partículas se van volando. La presencia de estas partículas degrada la calidad de la película. Para reducir los poros sólidos secos en el material objetivo y mejorar el rendimiento de la película, generalmente se requiere que el material objetivo de pulverización catódica tenga una mayor densidad. Para los objetivos de pulverización catódica de conos, su densidad relativa debe ser superior al 98%.

· Fijación de blanco y chasis.

Se debe conectar un objetivo de molibdeno especial al chasis de cobre (o aluminio y otros materiales) libre de oxígeno-antes de la pulverización catódica, de modo que el objetivo y el chasis conduzcan una buena conductividad térmica y eléctrica durante el proceso de pulverización catódica. Después de la unión, debe someterse a una inspección ultrasónica para garantizar que los dos no se combinen en un 2%. Sólo así podrá cumplir con los requisitos de la energía natural sin caerse.

·Tamaño de grano y distribución de tamaño

Por lo general, los objetivos especiales de molibdeno tienen una estructura policristalina y el tamaño de grano puede variar desde micras hasta milímetros. La investigación experimental muestra que la velocidad de disparo de objetivos con granos de tamaño fino-es más rápida que la de objetivos de grano grueso-; y objetivos con diferencias de tamaño de grano más pequeñas, la distribución del espesor de la película depositada también es más uniforme.

· Orientación del cristal

Debido a que los átomos objetivo se pulverizan fácilmente preferentemente a lo largo de la dirección de la disposición hexagonal más cercana de los átomos durante la pulverización, para lograr la velocidad de pulverización más alta, la velocidad de pulverización a menudo se aumenta cambiando la estructura cristalina del objetivo. La dirección cristalográfica del objetivo también tiene una gran influencia en la uniformidad del espesor de la película pulverizada. Por lo tanto, obtener una determinada estructura objetivo de orientación cristalina es crucial para el proceso de pulverización catódica de película fina.

 

 

Especificaciones de productos

 

 

 

Pauta:


GB/T3876-83, GB/T14592-93, QJ/BHZ02.68-89

fe

Ni

Alabama

Si

California

magnesio

P

C

O

N

0.006

0.003

0.002

0.003

0.002

0.002

0.001

0.010

0.006

0.003

 

Material

Molibdeno puro (99,95%)

Superficie

suelo a 32 mm

Forma

placa, lámina, lámina, disco, varilla, tubo, crisol;

Proceso

Forja-Sinterización-Molienda

Dimensiones

Thickness >2 mm, ancho<500mm, Length <1000mm.

Solicitud

industria electrónica

 

 

 

 

Aplicación de productos

 
Special Molybdenum Target price

Pantallas planas (FPD)

Ideal para cableado, electrodos de línea matricial y capas de barrera en pantallas TFT-LCD y OLED. En el pasado, los materiales de cableado de las pantallas planas eran principalmente hemorroides, pero a medida que las pantallas planas se vuelven más grandes y precisas, se necesitan cada vez más materiales con menor impedancia específica. Además, también hay que tener en cuenta la protección del medio ambiente. El molibdeno tiene la ventaja de sólo la mitad de la impedancia específica y la tensión de la película que el cromo, y no presenta problemas de contaminación ambiental, por lo que se ha convertido en uno de los materiales preferidos para objetivos de pulverización catódica para pantallas planas-.

Special Molybdenum Target application

Semiconductores y embalajes microelectrónicos

A medida que los nodos de fabricación de semiconductores continúan reduciéndose, el molibdeno y sus aleaciones especializadas (como Mo-Ti y Mo-Nb) se utilizan cada vez más como barreras de difusión, electrodos de puerta, capas metálicas de contacto y capas protectoras en circuitos integrados (CI), dispositivos semiconductores de potencia y MEMS. Ubicada entre materiales dieléctricos y líneas de interconexión de cobre o aluminio, la capa de molibdeno previene eficazmente la migración de átomos perjudiciales y las reacciones interfaciales.

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Energía fotovoltaica y células solares de película delgada-

El molibdeno sirve como capa de electrodo de contacto posterior-universalmente aceptada en módulos solares de película delgada-tipo calcopirita, en particular células de seleniuro de cobre, indio y galio (CIGS) y telururo de cadmio (CdTe). Como contacto posterior, la capa de molibdeno pulverizada debe formar un contacto óhmico confiable con la capa absorbente mientras permanece químicamente inerte durante el proceso agresivo de selenización o sulfuración a alta temperatura-.

Special Molybdenum Target factory

Vidrio de baja-E y revestimientos funcionales inteligentes

La pulverización catódica con magnetrón en línea a gran-escala utiliza molibdeno puro, así como objetivos de aleación de molibdeno-niobio (Mo-Nb) y molibdeno-cromo (Mo-Cr) para modular las características térmicas y ópticas del vidrio arquitectónico y automotriz moderno. En las pilas de vidrio de baja-emisividad (baja-E), la capa de molibdeno actúa como una barrera vital de bloqueo, siembra o sacrificio diseñada para proteger la capa reflectante infrarroja-de plata (Ag) ultra-delgada de la oxidación durante procedimientos severos de templado y doblado de vidrio a altas-temperaturas.

 

Preguntas frecuentes

 

 

 

P: ¿Cuánto dura el tiempo de entrega?

R: Los objetivos rectangulares o de disco de tamaño- estándar normalmente se envían en un plazo de 2 a 3 semanas. Las configuraciones personalizadas, los objetivos giratorios grandes o los ensamblajes que requieren unión de indio suelen tardar entre 4 y 5 semanas.

P: ¿Cómo controla la pureza y la calidad de sus objetivos?

R: Gestionamos la calidad a partir de los polvos de materia prima. Cada lote se somete a pruebas de composición química y análisis de tamaño de grano. Los productos finales reciben un Certificado de análisis (COA) completo que contiene los resultados de las pruebas de impurezas GDMS e informes de pruebas ultrasónicas (UT) para la integridad estructural.

P: ¿Pueden proporcionar objetivos de aleación como Mo-Ti o Mo-Nb?

R: Sí. Nos especializamos en aleaciones de molibdeno binarias y multi-componentes (por ejemplo, Mo-Ti 50/50 % en peso, Mo-Nb 90/10 % en peso). Nuestra tecnología patentada de mezcla de polvos evita la segregación de fases, lo que garantiza una composición perfectamente uniforme en todo el volumen objetivo.

P: ¿Puede proporcionar una muestra?

R: Por supuesto, podemos enviar muestras gratuitas para su prueba según sus necesidades, solo necesita pagar una pequeña cantidad de envío.

P: ¿Cuál es la cantidad mínima de pedido?

R: Este producto es un producto personalizado, que generalmente se proporciona según los dibujos. Si desea probar la muestra primero, podemos hacerlo según el tamaño del stock, también hay 1 pieza disponible.

P: ¿Qué tipo de certificados tiene?

R: Somos propietarios de ISO 9001, CE y más. Póngase en contacto directamente con nuestro personal de ventas para obtener información adicional.

 

¿Por qué elegirnos?
 

 

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ShaanxiEHISEN Tecnología Co., Ltd.es un fabricante líder especializado en metales refractarios de alto-rendimiento y recubrimientos avanzados con más de 20 años de profunda experiencia en la industria. Respaldado por15+ patentes nacionalesy un estricto sistema de gestión de calidad ISO 9001, entregamos materiales de destino diseñados-personalizados a más de 520 clientes en todo el mundo.

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Entrega de embalaje

 

 

 

 

Detalles de embalaje: Después de las pruebas, los productos elegibles se empaquetarán de acuerdo con el embalaje de exportación o con papel suave dentro de una caja de madera en el exterior.

 

Información de entrega: 3 a 15 días hábiles después de la entrega; La bola de titanio se empaqueta con sumo cuidado, precaución y seguridad.

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Seleccionaremos para usted el método de envío más conveniente, económico y seguro entre el envío urgente, aéreo y marítimo.

 

Antes de la entrega, nuestro cliente recibirá fotografías de los productos terminados, información sobre el embalaje y el MTC después de que esté satisfecho con nuestra oferta. Entregaremos los productos a tiempo. Las imágenes que ve representan con precisión la mercancía.

 

 

 

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